Китайская государственная компания начала серийное производство собственных иммерсионных DUV-литографов. Первые машины планируют передать крупнейшим китайским производителям микросхем уже в 2026 году.
Проект возглавляет малоизвестная государственная компания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. По данным Reuters и Bloomberg, оборудование предназначено для SMIC, Hua Hong Semiconductor и производителя памяти ChangXin Memory Technologies. Сообщается, что в 2026 году могут быть изготовлены первые пять установок.
DUV-литография использует глубокое ультрафиолетовое излучение для переноса рисунка микросхем на кремниевые пластины. Такие установки технологически уступают новейшим EUV-системам, однако остаются важнейшим оборудованием полупроводниковой промышленности. С помощью многократного экспонирования на них можно выпускать достаточно сложные чипы, хотя это увеличивает стоимость производства и снижает выход годных кристаллов.
До сих пор мировой рынок наиболее производительных иммерсионных DUV-машин фактически контролировала нидерландская ASML. Из-за экспортных ограничений китайские предприятия лишены доступа к самым современным установкам компании, поэтому собственное оборудование должно уменьшить их зависимость от иностранных поставок.
При этом начало производства ещё не доказывает, что китайские машины способны обеспечить сравнимую с ASML надёжность и производительность в круглосуточном промышленном режиме. Новому оборудованию предстоит пройти квалификацию на предприятиях и подтвердить стабильность при массовом выпуске микросхем.
Сообщение уже повлияло на рынок: инвесторы восприняли его как потенциальную угрозу будущим продажам ASML в Китае. Одновременно новость показывает, что экспортные ограничения ускоряют создание Китаем собственной технологической цепочки для выпуска полупроводников.
Дополнительный материал Bloomberg: https://www.bloomberg.com/news/articles/2026-07-28/china-duv-chipmaking-how-machine-advances-could-reduce-reliance-on-asml-nvidia
Китай начал выпуск собственных иммерсионных DUV-машин для производства микросхем
Источник: Reuters