Корпорация Intel, в настоящее время прикладывающая немалые усилия к завоеванию мобильного рынка, сообщила о планах по переходу в конце 2013 года сразу на 14-нм техпроцесс вместо 16-нм проектных норм, о которых говорилось ранее. Одновременно производитель сообщил, что исследования и разработка 10-нм техпроцесса уже ведутся, а массовое производство намечено на 2015 год.
Компания также отметила, что будет два варианта 14-нм производства — P1272 и P1273, причём оба планируется освоить к концу 2013 года, дабы обеспечить запуск чипов Broadwell в начале 2014 года. Видимо, один из них будет использоваться для энергоэффективных чипов, а второй — для производительных. Компания будет продолжать инвестиции в фабрики D1X в Орегоне, Fab 42 в Аризоне и Fab 24 в Ирландии. Ранее компания уже сообщала, что на этих предприятиях будет освоен следующий за 22-нм техпроцесс.
Следующими запланированными производственными нормами после освоения 10-нм в 2015 году станут 7-нм и 5-нм. В мае 2011 года Intel представила новую 22-нм производственную технологию, в которой впервые были применены 3D-транзисторы, позволяющие уменьшить токи утечек и, как следствие, общее энергопотребление конечных чипов. Впервые технология была применена при производстве процессоров Ivy Bridge, на смену которым в начале следующего года придут чипы Haswell.
Источник: 3dnews.ru
|
