Технический директор Intel Джастин Раттнер (Justin Rattner) заявил, что разработка компанией 14-нм норм техпроцесса проходит по намеченному плану — массовое производство должно начаться через год или немного больше. Также компания вместе со своими партнёрами разрабатывает технологии печати чипов на 450-мм пластинах.
Господин Раттнер отметил, что агрессивное развитие технологий со стороны Intel позволяет продлить действие так называемого «Закона Мура» ещё на 10 лет. В конце 2013 года Intel собирается начать производство своих первых 14-нм процессоров и SoC, расширяя инвестиции в фабрики D1X Fab в Орегоне, Fab 42 в Аризоне и Fab 24 в Ирландии. После 14-нм норм Intel собирается освоить к 2015 году 10-нм производство, а затем последуют 7-нм и 5-нм — на каждый переход компания отводит по-прежнему 2 года.
Что касаясь конкурентов Intel, то Samsung готова начать 20-нм производство в 2013 году и уже разрабатывает 14-нм нормы, а Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) собирается начать печать 20-нм чипов небольшими партиями во второй половине 2013 года. GlobalFoundries, ранее анонсировавшая свой 14-нм техпроцесс FinFET, начнёт пилотное производство таких чипов в конце 2013 года, а массовое — в 2014 году.
Что же касается перехода на кремниевые пластины с диаметром 450 мм (сегодня применяются 300-мм со вдвое меньшей площадью), то производство с их применением намечено на 2017 год.
Источник: 3dnews.ru
|
